File:Extreme ultraviolet lithography tool.jpg
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元のファイル (713 × 605 ピクセル、ファイルサイズ: 80キロバイト、MIME タイプ: image/jpeg)
元のファイル (713 × 605 ピクセル、ファイルサイズ: 80キロバイト、MIME タイプ: image/jpeg)
解説Extreme ultraviolet lithography tool.jpg |
English: EUVL tool, that deposits virtually defect-free, ultra-thin films on integrated circuits. |
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日付 | |||||
原典 | Laser Programs, the first 25 years, 1972-1997, available from osti.gov. | ||||
作者 | Lawrence Livermore National Laboratory | ||||
許可 (ファイルの再利用) |
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日付と時刻 | サムネイル | 寸法 | 利用者 | コメント | |
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現在の版 | 2011年9月22日 (木) 18:19 | 713 × 605 (80キロバイト) | Bomazi (トーク | 投稿記録) | {{Information |Description ={{en|1=EUVL tool, that deposits virtually defect-free, ultra-thin films on integrated circuits.}} |Source =''Laser Programs, the first 25 years, 1972-1997'', available from [http://www.osti.gov/bridge/product.biblio. |
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