JP4187477B2

JP4187477B2 - Low reflection film

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Publication number: JP4187477B2
Application number: JP2002226789A
Authority: JP
Inventors: 高宏新實; 浩征橋本; 知宏高尾
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2002-08-05
Filing date: 2002-08-05
Publication date: 2008-11-26
Anticipated expiration: 2022-08-05
Also published as: JP2004069867A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、防眩性や表面の反射防止性に優れた低反射フィルムに関し、さらに詳しくは、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサ等の各種ディスプレイ、液晶表示装置に用いる偏光板などの表面に用いられ、表面の反射防止性、また、塵埃による汚れ防止性や耐擦傷性に優れ、特に基材シートとこれに隣接する層との界面で表面からの入射光が反射されることにより発生する干渉ムラ（色ムラ）を抑制することができる低反射フィルムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサ等の各種電子機器のディスプレイやその他種々の商業ディスプレイ等には、ガラスやプラスチックなどの透明基板が用いられ、これらの透明基板を通して文字や図形画像などの視覚情報を得ているが、これらの透明基板は表面において外光反射が生じ、上記した視覚情報が見づらいという問題があった。
【０００３】
また、上記した透明基板、特にプラスチック透明基板や電子ビームが前面に当たっているＣＲＴ（ブラウン管）等のガラス透明基板は帯電がおきやすく、これにより塵埃が付着したり、また、この塵埃を取り除く際や清掃時等に透明基板に擦り傷や引っ掻き傷等が付くことにより透明性が損なわれるという問題があった。
【０００４】
そこで、上記した問題を解決する一つの方法として、たとえば、ガラスやプラスチックなどの透明基板の前面に、透明基材フィルムにハードコート層、透明導電層あるいは反射防止層等を形成した反射防止フィルムを貼設する方法が採られ、これにより傷付き防止、帯電防止、反射防止等を図っている。
【０００５】
上記した反射防止フィルムの代表的な構成としては、たとえば、▲１▼透明基材フィルム上に多官能アクリレート樹脂等からなるハードコート層を積層し、その上に前記ハードコート層よりも屈折率の低い反射防止層を積層した構成、あるいは、▲２▼透明基材フィルム上に導電性微粒子を含有した多官能アクリレート樹脂等からなるハードコート層を積層し、その上に前記ハードコート層よりも屈折率の低い反射防止層を積層した構成のものなどである。
【０００６】
しかし、上記▲１▼、▲２▼の構成の反射防止フィルムにおいて、反射防止層、ハードコート層、透明基材フィルムのそれぞれの屈折率が異なるために、前記反射防止層と前記ハードコート層との界面および前記ハードコート層と前記透明基材フィルムとの界面でそれぞれ表面側から入射した外光が反射し、このそれぞれの反射光が干渉を起こし干渉ムラ（色ムラ）として観察され、文字や図形画像などの視覚情報を見づらくするという問題があった。特に、上記▲２▼の構成の反射防止フィルムにおいては、ハードコート層がＩＴＯ（酸化インジウム錫）やＡＴＯ（アンチモンドープ酸化錫）などの導電性微粒子を含有した層からなるために、このハードコート層は均一な膜厚の塗膜層を形成することは難しく、大きなウネリ状の膜厚ムラとなり、これに起因して一層干渉ムラ（色ムラ）が顕著になって現れる。上記▲１▼、▲２▼の構成の反射防止フィルムにおいて、干渉ムラ（色ムラ）を抑制する方法としては、最表面に凹凸形状を付与することにより、干渉ムラ（色ムラ）をある程度は抑制することができるものの、ヘイズ（曇度）が高くなり、すなわち、フィルム表面が白化するために解像度、コントラスト、透明性などの光学的特性が低下し、さらにまた、このものをＣＲＴ（ブラウン管）等の表面に貼設するとフィルム表面にキラキラと光る、いわゆる面ギラ（シンチレーション）と呼ばれる輝きが発生し、文字や図形画像などの視覚情報の視覚性が低下するという問題があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
そこで本発明は、各種ディスプレイ等に使用して透明基板を通して認識する文字や図形画像などの視覚情報を観察する場合に、表面からの入射光が、特に透明基材フィルムとこれに隣接する層との界面で反射される反射光が関与することにより発生する干渉ムラ（色ムラ）を抑制することができると共に面ギラの問題とならない低反射フィルムを提供することであり、さらにまた、外光の反射を防止し、帯電による塵埃の付着を防止し、擦り傷や引っ掻き傷等で透明性を損なわない程度に十分な硬度を有する低反射フィルムを提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記課題を達成するために、請求項１記載の本発明の帯電防止性低反射フィルムは、透明基材フィルムの一方の面に、干渉防止塗膜層、ハードコート層、及び反射防止層が順に積層された帯電防止性低反射フィルムであって、
前記ハードコート層の屈折率が前記反射防止層の屈折率よりも高く形成され、
前記干渉防止塗膜層は、アクリル、スチレン−アクリル共重合体、メラミン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニルよりなる群から選ばれる一種ないしそれ以上の種類の透明樹脂ビーズと、金属酸化物からなる導電性微粒子を少なくとも含有する塗布液を硬化させて得られ、且つ当該干渉防止塗膜層は前記透明基材フィルムとは反対側の面に、ＪＩＳ−Ｂ０６０１−１９９４の１０点平均粗さによる表面粗さが、０．０５〜０．１５μｍの範囲の微細凹凸面を有することを特徴とするものである。
【００１０】
上記請求項１に記載の構成とすることにより、反射防止層側から入射する外光の反射光を微細凹凸面で散乱させることができ、干渉ムラ（色ムラ）を抑制した低反射フィルムとすることができる。なお、本明細書での表面粗さは、ＪＩＳ−Ｂ０６０１−１９９４の１０点平均粗さによる表面粗さである。
【００１２】
また、請求項１記載の本発明は、前記干渉防止塗膜層が、導電性微粒子を含有することにより、安定した導電性を有する。
【００１３】
前記干渉防止塗膜層が、アクリル、スチレン−アクリル共重合体、メラミン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニルよりなる群から選ばれる一種ないしそれ以上の種類の透明な樹脂ビーズを含有することにより、微細凹凸面による干渉防止効果を有する低反射フィルムとすることができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
上記の本発明について、図面等を用いて以下に詳述する。
図１は本発明にかかる低反射フィルムの第１実施形態を図解的に示す図、図２は本発明にかかる低反射フィルムの第２実施形態を図解的に示す図、図３は本発明にかかる低反射フィルムの第３実施形態を図解的に示す図、図４は本発明にかかる低反射フィルムの第４実施形態を図解的に示す図であり、図中の１，１’，１”，１’’’は低反射フィルム、１０，１０’は透明基材フィルム、２０，２０’は干渉防止塗膜層、３０，３０’はハードコート層、３１は第１ハードコート層、３２は第２ハードコート層、４０は反射防止層、Ａは微細凹凸面、αは導電性微粒子、βは透明樹脂ビーズをそれぞれ示す。
【００１８】
図１は本発明にかかる低反射フィルムの第１実施形態を図解的に示す図であって、低反射フィルム１は透明基材フィルム１０上に該透明基材フィルム１０と対向する面が０．０５〜０．１５μｍの範囲の表面粗さからなる微細凹凸面Ａを有する干渉防止塗膜層２０を形成し、該干渉防止塗膜層２０の前記微細凹凸面Ａに、ハードコート層３０と反射防止層４０とが順に積層され、前記ハードコート層３０の屈折率が前記反射防止層４０の屈折率よりも高く形成した構成とすることにより、前記反射防止層４０側から観察した際に、反射防止性を有する低反射フィルム１とすることができ、また、前記干渉防止塗膜層２０の前記ハードコート層と隣接する面を微細凹凸面Ａとすることにより、前記反射防止層４０側から観察した際に、前記反射防止層側から入射する外光の反射光を前記微細凹凸面Ａで散乱させて、干渉ムラ（色ムラ）を抑制することができ、干渉ムラ（色ムラ）の目立たない低反射フィルムとすることができる。
【００１９】
図２は本発明にかかる低反射フィルムの第２実施形態を図解的に示す図であって、低反射フィルム１’は図１に示した第１実施形態の低反射フィルム１の前記干渉防止塗膜層２０を導電性微粒子αと透明樹脂ビーズβとを含有した干渉防止塗膜層２０’とすることにより導電性と所望の微細凹凸面Ａを付与したものであって、これ以外は図１に示した第１実施形態と同じである。このように導電性微粒子αと透明樹脂ビーズβとを含有した干渉防止塗膜層２０’とすることにより、前記導電性微粒子αにより前記干渉防止塗膜層２０’を導電層とすることができて帯電防止効果を有する共に前記透明樹脂ビーズβにより微細凹凸による干渉防止効果を有する低反射フィルムとすることができる。
【００２０】
図３は本発明にかかる低反射フィルムの第３実施形態を図解的に示す図であって、低反射フィルム１”は図１に示した第１実施形態の低反射フィルム１の前記ハードコート層３０が前記反射防止層４０の屈折率より相対的に高い屈折率を有する第１ハードコート層３１と前記反射防止層４０と隣接する第２ハードコート層３２とからなると共に、前記第２ハードコート層３２の屈折率が前記第１ハードコート層３１の屈折率よりも相対的に高い屈折率となるように構成されたハードコート層３０’からなるものであって、これ以外は図１に示した第１実施形態と同じである。このように相対的に低い屈折率を有する前記第１ハードコート層３１と相対的に高い屈折率を有する前記第２ハードコート層３２とからなる前記ハードコート層３０’とすることにより、前記反射防止層４０と前記第２ハードコート層３２と前記第１ハードコート層３１との相対的屈折率がそれぞれ低屈折率、高屈折率、中屈折率となり、前記反射防止層４０側から観察した際に、一層反射防止性を高めた低反射フィルムとすることができる。
【００２１】
図４は本発明にかかる低反射の第４実施形態を図解的に示す図であって、低反射フィルム１’’’は図１に示した第１実施形態の低反射フィルム１の前記干渉防止塗膜層２０により形成した微細凹凸面Ａを、前記透明基材フィルム１０に代えて、一方の表面に微細凹凸面Ａを有する透明基材フィルム１０’を用いることにより、前記干渉防止塗膜層２０を設けることなく、０．０５〜０．１５μｍの範囲の表面粗さからなる微細凹凸面Ａを形成したものであって、これ以外は図１に示した第１実施形態と同じである。
【００２２】
次に、本発明の低反射フィルム１、１’，１”，１’’’を構成する材料について説明する。
まず、透明基材フィルム１０について説明する。透明基材フィルム１０としては、一軸方向ないし二軸方向に延伸したポリエステルが透明性および耐熱性に優れ、セルローストリアセテートフィルムは透明性および光学的に異方性がない点で好適に用いることができ、その他にもセルロースジないしトリアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタアクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン等の熱可塑性ポリマーの未延伸、一軸方向ないし二軸方向に延伸した延伸フィルムを用いることができる。透明基材フィルムの好ましい厚さは８〜１０００μｍである。また、一方の面に微細凹凸面Ａを有する透明基材フィルム１０’は上記したプラスチックフィルムを成膜する際に、上記した表面粗さを有する賦形フィルムないし賦形ロール等の周知の賦形方法を用いて賦形することや粒子を練り込むことにより形成することができる。また、前記透明基材フィルム１０、１０’は必要な面に、コロナ放電処理、オゾン処理、プラズマ処理等の周知の易接着処理を適宜施すことができる。
【００２３】
次に、前記干渉防止塗膜層２０の形成に用いられる樹脂について説明する。この樹脂としては、透明性を有しているものであれば特に限定するものではなく、たとえば、熱可塑性樹脂や熱硬化型や電離放射線硬化型などの反応硬化型樹脂等を用いることができるが、透明基材フィルム１０ないし１０’との接着性および前記干渉防止塗膜層２０の上に形成する前記ハードコート層３０、３０’（正確には前記第１ハードコート層３１）との接着性を考慮するならば反応硬化型樹脂が好ましく、たとえば、アルキッド樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート〔以下本明細書では、アクリレートとメタクリレートとの両者を（メタ）アクリレートと記載する〕等のオリゴマーないしプレポリマーおよび反応性の希釈剤を比較的多量に含むもの等の電離放射線硬化型樹脂（その前躯体も含む）等を挙げることができる。
【００２４】
なお、上記反応性希釈剤としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルへキシル（メタ）アクリレート、スチレン、ビニルトルエン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、並びに、多官能モノマー、たとえば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００２５】
さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、これらの中に光重合開始剤として、たとえば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類や光増感剤として、たとえば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等を用いることができる。
【００２６】
また、上記の電離放射線硬化型樹脂の硬化には、通常の電離放射線硬化型樹脂の硬化方法、すなわち、電子線ないし紫外線の照射によって硬化する方法を用いることができ、たとえば、電子線硬化の場合にはコックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を利用することができる。
【００２７】
なお、前記干渉防止塗膜層２０は、上記した透明性を有する樹脂（以下、透明性樹脂と呼称する）からなる塗布液を上記した透明基材フィルム１０に直接ないし前記透明基材フィルム１０との接着を強固にするプライマー層２０を介して形成することができ、塗布方法は、特に限定されるものではなく、塗布液の特性や塗布量に応じて、たとえば、ロールコート法、グラビアコート法、バーコート法、押出しコート法等の周知の塗布方法より適当な塗布方法を選択して行えばよいものである。前記干渉防止塗膜層２０の塗布厚さとしては、概ね０．５〜３．０μｍである。
【００２８】
次に、導電性を付与した前記干渉防止塗膜層２０’は、前記干渉防止塗膜層２０で説明した透明性樹脂に前記導電性微粒子αを分散させた塗布液を上記した塗布方法より適当な塗布方法を選択して塗布することにより形成することができる。これに用いる前記導電性微粒子αとしては、ＺｎＯ（屈折率：１．９０）、ＣｅＯ₂（屈折率：１．９５）、Ｓｂ₂Ｏ₅（屈折率：１．７１）、ＳｎＯ₂（屈折率：１．９９７）、Ｉｎ₂Ｏ₃（屈折率：２．００）、Ａｌ₂Ｏ₃（屈折率：１．６３）、酸化インジウム錫（略称：ＩＴＯ、屈折率：１．９５）、アンチモンドープ酸化錫（略称：ＡＴＯ、屈折率：２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称：ＡＺＯ、屈折率：２．０）等の金属酸化物からなる群より選ばれる１種ないしは２種以上からなる微粒子を挙げることができ、この微粒子の平均粒径としては、透明性を考慮して１０〜１００ｎｍのものが適当である。また、導電性を付与した前記干渉防止塗膜層２０’の厚さとしては、表面抵抗率が１×１０¹²Ω／□以下となるように構成するべきであり、０．５〜３．０μｍ、好ましくは１．０〜２．０μｍである。０．５μｍ未満では表面抵抗率が１×１０¹²Ω／□以下とすることが困難であり、３．０μｍ超では透明性を失う虞がある。
【００２９】
また、前記干渉防止塗膜層２０’は、前記干渉防止塗膜層２０で説明した透明性樹脂に前記透明樹脂ビーズβを分散させた塗布液を上記した塗布方法より適当な塗布方法を選択して塗布することにより形成することができる。これに用いる前記透明樹脂ビーズβとしては、前記透明樹脂ビーズβを分散させる前記透明性樹脂の屈折率との差が０〜０．１０であるもの、より好ましくは０〜０．０５であるものであり、また、前記透明樹脂ビーズβの平均粒径としては１．０〜５．０μｍの範囲のものが適当であり、たとえば、アクリルビーズ（屈折率１．４９）、スチレン−アクリル共重合体ビーズ（屈折率１．５４）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、ポリカーボネートビーズ（屈折率１．５７）、ポリエチレンビーズ（屈折率１．５０）、ポリスチレンビーズ（屈折率１．６０）、ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率１．６０）等の一種ないしそれ以上の種類のビーズを適宜用いることができ、このような前記透明樹脂ビーズを用いることにより、内部ヘイズ（曇度）を抑制する。
【００３０】
なお、前記干渉防止塗膜層２０’を前記導電性微粒子αと前記透明樹脂ビーズβとを含有した層として説明したが、前記干渉防止塗膜層２０’は前記導電性微粒子αないし前記透明樹脂ビーズβのいずれか一方を含有した層であってもよいものである。
【００３１】
次に、前記干渉防止塗膜層２０、２０’上に形成する前記ハードコート層３０について説明する。前記ハードコート層３０は、耐擦傷性を有する硬度と導電性を付与した前記干渉防止塗膜層２０’の導電性を極端に損なわない層であり、通常、塗布することにより形成することができる。前記ハードコート層３０の形成には、前記干渉防止塗膜層２０、２０’の形成に用いられる上記した反応硬化型樹脂等が用いられる。また、塗布方法および硬化方法も前記干渉防止塗膜層２０、２０’の形成の場合と同じである。なお、本発明において、「ハードコート層」とは、ＪＩＳ−Ｋ５４００で示される鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を示すものである。
【００３２】
本発明における前記ハードコート層３０は、上記した電離放射線硬化型樹脂等の反応硬化型樹脂で形成することができ、この場合、前記ハードコート層３０単独では導電性の機能がなくても、この層の下に形成した導電性を有する前記干渉防止塗膜層２０’の効果で前記ハードコート層３０上でも帯電防止効果のある表面抵抗率が測定される。なお、後述するが前記反射防止層４０は前記ハードコート層３０に比べて非常に薄膜であるために、前記ハードコート層３０上に前記反射防止層４０を形成してもその表面抵抗率等の帯電防止効果を損なうことはない。前記ハードコート層３０の厚さとしては、１．０〜３．０μｍ、好ましくは１．５〜２．５μｍである。１．０μｍ未満では、その上に形成する各層の硬度を維持できなくなり、３．０μｍ超では反射フィルム１、１’、１’’’の表面抵抗率を悪化させる。また、本発明において前記ハードコート層３０の屈折率を後述する前記反射防止層４０の屈折率よりも高く、具体的には前記ハードコート層３０の屈折率を１．６０〜１．８０、前記反射防止層の屈折率を１．３５〜１．４５に構成することにより、後述する前記反射防止層４０側から観察した際に、反射防止性を有する低反射フィルム１、１’、１’’’とすることができる。前記ハードコート層３０の屈折率は、上記した透明性樹脂に透明な高屈折率の微粒子（以下、高屈折率微粒子と呼称する）、たとえば、ＴｉＯ₂（屈折率：２．３〜２．７）、Ｙ₂Ｏ₃（屈折率：１．８７）、Ｌａ₂Ｏ₃（屈折率：１．９５）、ＺｒＯ₂（屈折率：１．０５）等の１種ないし２種以上を適宜添加することにより、屈折率が調節される。
【００３３】
また、後述する前記反射防止層４０側から観察した際に、反射防止性を一層高める目的で、図１、２、４に示した前記ハードコート層３０を図３に示すように前記第１ハードコート層３１と前記第２ハードコート層３２とからなる前記ハードコート層３０’としてもよいものである。この場合、前記第２ハードコート層３２の屈折率を前記第１ハードコート層３１の屈折率より相対的に高く、かつ、前記第２ハードコート層３２と前記第１ハードコート層３１との屈折率を後述する前記反射防止層４０のｌ屈折率よりも相対的に高く、具体的には前記第１ハードコート層３１の屈折率を１．６０〜１．８０、前記第２ハードコート層の屈折率を１．８０〜１．９５、後述する前記反射防止層４０の屈折率を１．３５〜１．４５に構成する。前記第１ハードコート層３１および前記第２ハードコート層３２の形成は、上記した透明性樹脂を用い、該透明性樹脂に上記した高屈折率微粒子を前記第１ハードコート層３１の屈折率が前記第２ハードコート層３２の屈折率よりも相対的に低く、かつ、上記した屈折率になるようにそれぞれ添加することにより屈折率が調節される。また、前記第１ハードコート層３１は前記ハードコート層３０と同じ目的で形成される層であり説明は省略する。また、前記第２ハードコート層３２は前記低反射フィルム１”の反射防止性を一層向上する目的で設けられるものであり、前記ハードコート層３０に比べて非常に薄膜であるために、前記第１ハードコート層３１上に前記第２ハードコート層３２を形成し、さらにこの第２ハードコート層３２上に後述する前記反射防止層４０を形成してもその表面抵抗率等の帯電防止効果を損なうことはない。前記第２ハードコート層３２の膜厚は、反射防止性を考慮すると５０〜２００ｎｍが適当である。
【００３４】
次に、前記反射防止層４０について説明する。前記反射防止層４０は本発明の低反射フィルムに低反射性（反射防止性）を付与するためであり、前記反射防止層４０の屈折率は前記ハードコート層３０、３０’の屈折率よりも小さいことが必要であり、１．４６以下であることが好ましく、さらに好ましくは１．３５〜１．４５である。また、本発明の低反射フィルム１、１’、１”、１’’’の反射防止性と帯電防止効果を考慮すると８０〜１２０ｎｍが適当である。また、前記反射防止層４０の形成は、上記した透明性樹脂にシリカないしフッ化マグネシウムを添加した塗布液、あるいは、低屈折率樹脂であるフッ化ビニリデンとヘキサフルオロプロピレンとの共重合体やシリコン含有のフッ化ビニリデン共重合体等のフッ素系樹脂等からなる塗布液、あるいは、前記フッ素系樹脂にシリカないしフッ化マグネシウムを添加した塗布液を、たとえば、ロールコート法、グラビアコート法、バーコート法等の周知の塗布方法で塗布することにより、形成することができる。
【００３５】
本発明の低反射フィルム１、１’、１”、１’’’は透視性と反射防止性を必要とする、たとえば、文字や図形画像などの視覚情報を観察する各種のディスプレイ、あるいは、カーブミラー、バックミラーなどの前面に貼設等して用いられるものである。
【００３６】
【実施例】
次に、本発明について、以下に実施例を挙げてさらに詳しく説明する。
参考例１（旧実施例１）
１８８μｍ厚さのポリエステルフィルムＡ−４３００〔東洋紡（株）製−商品名〕の一方の面に、ペンタエリスリトールトリアクリレートにスチレンビーズ（屈折率：１．６０）を分散した塗布液を塗布・乾燥後に紫外線を照射して硬化させて２．５μｍ厚さの干渉防止塗膜層を形成した。ついで、この干渉防止塗膜層上にＫＺ７９７３〔ジルコニア超微粒子を分散させたハードコート剤（固形分５０重量％）：ＪＳＲ（株）製−商品名〕を塗布・乾燥後に窒素パージ下で紫外線を照射して硬化させて３．０μｍ厚さのハードコート層（屈折率：１．６９）を形成した。その後、前記ハードコート層上にＴＭ０８６〔低屈折率コート剤（固形分１０重量％）：ＪＳＲ（株）製−商品名〕をメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）で希釈して塗布・乾燥後に、窒素パージ下で紫外線を照射して硬化させて１００ｎｍ厚さの反射防止層（屈折率：１．４１）を形成し、本発明の低反射フィルムを得た。
【００３７】
参考例２（旧実施例２）
１８８μｍ厚さのポリエステルフィルムＡ−４３００〔東洋紡（株）製−商品名〕の一方の面に、ペンタエリスリトールトリアクリレートにスチレンビーズ（屈折率：１．６０）を分散した塗布液を塗布・乾燥後に紫外線を照射して硬化させて２．０μｍ厚さの干渉防止塗膜層を形成した。ついで、この干渉防止塗膜層上にＫＺ７９７３〔ジルコニア超微粒子を分散させたハードコート剤（固形分５０重量％）：ＪＳＲ（株）製−商品名〕を塗布・乾燥後に窒素パージ下で紫外線を照射して硬化させて３．０μｍ厚さのハードコート層（屈折率：１．６９）を形成した。その後、前記ハードコート層上にＴＭ０８６〔低屈折率コート剤（固形分１０重量％）：ＪＳＲ（株）製−商品名〕をＭＩＢＫで希釈して塗布・乾燥後に、窒素パージ下で紫外線を照射して硬化させて１００ｎｍ厚さの反射防止層（屈折率：１．４１）を形成し、本発明の低反射フィルムを得た。
【００３８】
参考例３（旧実施例３）
１８８μｍ厚さのポリエステルフィルムＡ−４３００〔東洋紡（株）製−商品名〕の一方の面に、ペンタエリスリトールトリアクリレートにスチレンビーズ（屈折率：１．６０）を分散した塗布液を塗布・乾燥後に紫外線を照射して硬化させて１．５μｍ厚さの干渉防止塗膜層を形成した。ついで、この干渉防止塗膜層上にＫＺ７９７３〔ジルコニア超微粒子を分散させたハードコート剤（固形分５０重量％）：ＪＳＲ（株）製−商品名〕を塗布・乾燥後に窒素パージ下で紫外線を照射して硬化させて３．０μｍ厚さのハードコート層（屈折率：１．６９）を形成した。その後、前記ハードコート層上にＴＭ０８６〔低屈折率コート剤（固形分１０重量％）：ＪＳＲ（株）製−商品名〕をＭＩＢＫで希釈して塗布・乾燥後に、窒素パージ下で紫外線を照射して硬化させて１００ｎｍ厚さの反射防止層（屈折率：１．４１）を形成し、本発明の低反射フィルムを得た。
【００３９】
実施例４
１８８μｍ厚さのポリエステルフィルムＡ−４３００〔東洋紡（株）製−商品名〕の一方の面に、ペルトロンＣ−４４５６−Ｓ７〔ＡＴＯ微粒子を分散させたハードコート剤（固形分４５重量％）：日本ペルノックス（株）製−商品名〕１００重量部に対し、スチレンビーズ分散ハードコート剤〔ペンタエリスリトールトリアクリレートにスチレンビーズ（屈折率：１．６０）を分散させたハードコート液（固形分４８重量％〕を３重量部添加した塗布液を塗布・乾燥後に紫外線を照射して硬化させて２．０μｍ厚さの導電性を有する干渉防止塗膜層を形成した。ついで、この干渉防止塗膜層上にＫＺ７９７３〔ジルコニア超微粒子を分散させたハードコート剤（固形分５０重量％）：ＪＳＲ（株）製−商品名〕を塗布・乾燥後に窒素パージ下で紫外線を照射して硬化させて３．０μｍ厚さのハードコート層（屈折率：１．６９）を形成した。その後、前記ハードコート層上にＴＭ０８６〔低屈折率コート剤（固形分１０重量％）：ＪＳＲ（株）製−商品名〕をＭＩＢＫで希釈して塗布・乾燥後に、窒素パージ下で紫外線を照射して硬化させて１００ｎｍ厚さの反射防止層（屈折率：１．４１）を形成し、本発明の低反射フィルムを得た。
【００４０】
実施例５
１８８μｍ厚さのポリエステルフィルムＡ−４３００〔東洋紡（株）製−商品名〕の一方の面に、ペルトロンＣ−４４５６−Ｓ７〔ＡＴＯ微粒子を分散させたハードコート剤（固形分４５重量％）：日本ペルノックス（株）製−商品名〕１００重量部に対し、スチレンビーズ分散ハードコート剤〔ペンタエリスリトールトリアクリレートにスチレンビーズ（屈折率：１．６０）を分散させたハードコート液（固形分４８重量％〕を３重量部添加した塗布液を塗布・乾燥後に紫外線を照射して硬化させて２．０μｍ厚さの導電性を有する干渉防止塗膜層を形成した。ついで、この干渉防止塗膜層上にＫＺ７９７３〔ジルコニア超微粒子を分散させたハードコート剤（固形分５０重量％）：ＪＳＲ（株）製−商品名〕を塗布・乾燥後に窒素パージ下で紫外線を照射して硬化させて３．０μｍ厚さの第１ハードコート層（屈折率：１．６９）を形成した。次に、前記第１ハードコート層上に酸化チタン分散ハードコート剤〔ペンタエリスリトールトリアクリレートに表面処理したチタニア微粒子を分散させた高屈折率ハードコート剤（固形分３０重量％）〕をトルエン／ＭＥＫの混合溶剤で希釈して塗布・乾燥後に、窒素パージ下で紫外線を照射して硬化させて１６０ｎｍ厚さの第２ハードコート層（屈折率：１．８３）を形成した。その後、前記第２ハードコート層上にＴＭ０８６〔低屈折率コート剤（固形分１０重量％）：ＪＳＲ（株）製−商品名〕をＭＩＢＫで希釈して塗布・乾燥後に、窒素パージ下で紫外線を照射して硬化させて１００ｎｍ厚さの反射防止層（屈折率：１．４１）を形成し、本発明の低反射フィルムを得た。
【００４１】
参考例４（旧実施例６）
５０μｍ厚さのポリエステルフィルムＰＴＨ−５０〔ユニチカ（株）製−商品名：粒子を練り込んでシート化することにより０．１μｍの表面粗さとしたフィルム〕に一方の面に、ＫＺ７９７３〔ジルコニア超微粒子を分散させたハードコート剤（固形分５０重量％）：ＪＳＲ（株）製−商品名〕を塗布・乾燥後に窒素パージ下で紫外線を照射して硬化させて３．０μｍ厚さのハードコート層（屈折率：１．６９）を形成した。その後、前記ハードコート層上にＴＭ０８６〔低屈折率コート剤（固形分１０重量％）：ＪＳＲ（株）製−商品名〕をＭＩＢＫで希釈して塗布・乾燥後に、窒素パージ下で紫外線を照射して硬化させて１００ｎｍ厚さの反射防止層（屈折率：１．４１）を形成し、本発明の低反射フィルムを得た。
【００４２】
比較例１
干渉防止塗膜層の膜厚を３．５μｍにした以外は実施例１と同様に作製して比較例とする低反射フィルムを得た。
【００４３】
比較例２
干渉防止塗膜層の膜厚を１．０μｍにした以外は実施例１と同様に作成して比較例とする低反射フィルムを得た。
【００４４】
比較例３
１８８μｍ厚さのポリエステルフィルムＡ−４３００〔東洋紡（株）製−商品名〕の一方の面に、ウレタン−アクリレート系電離放射線硬化型樹脂ＥＨ６５〔ザ・インクテック（株）製−商品名〕をトルエンで希釈して塗布・乾燥後に紫外線を照射して硬化させて約６μｍ厚さのハードコート層を形成した。このハードコート層上にペルトロンＣ−４４５６−Ｓ７〔ＡＴＯ微粒子を分散させたハードコート剤（固形分４５重量％）：日本ペルノックス（株）製−商品名〕１００重量部に対し、スチレンビーズ分散ハードコート剤〔ペンタエリスリトールトリアクリレートにスチレンビーズ（屈折率：１．６０）を分散させたハードコート液（固形分４８重量％〕を３重量部添加した塗布液を塗布・乾燥後に紫外線を照射して硬化させて８０ｎｍ厚さの導電性薄膜層を形成した。さらに、この導電性薄膜層上にＴＭ０８６〔低屈折率コート剤（固形分１０重量％）：ＪＳＲ（株）製−商品名〕をＭＩＢＫで希釈して塗布・乾燥後に、窒素パージ下で紫外線を照射して硬化させて１００ｎｍ厚さの反射防止層（屈折率：１．４１）を形成し、比較例とする低反射フィルムを得た。
【００４５】
比較例４
１８８μｍ厚さのポリエステルフィルムＡ−４３００〔東洋紡（株）製−商品名〕の一方の面に、ペルトロンＣ−４４５６−Ｓ７〔ＡＴＯ微粒子を分散させたハードコート剤（固形分４５重量％）：日本ペルノックス（株）製−商品名〕を１００重量部に対し、スチレンビーズ分散ハードコート剤〔ペンタエリスリトールトリアクリレートにスチレンビーズ（屈折率：１．６０）を分散させたハードコート液（固形分４８重量％〕を３重量部添加した塗布液を塗布・乾燥後に紫外線を照射して硬化させて４μｍ厚さの導電性薄膜層を形成した。さらに、この導電性薄膜層上にＴＭ０８６〔低屈折率コート剤（固形分１０重量％）：ＪＳＲ（株）製−商品名〕をメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）で希釈して塗布・乾燥後に、窒素パージ下で紫外線を照射して硬化させて１００ｎｍ厚さの反射防止層（屈折率：１．４１）を形成し、比較例とする低反射フィルムを得た。
【００４６】
上記で作製した実施例１〜６、および、比較例１〜４の低反射フィルムについて、干渉防止塗膜層の微細凹凸面の平均粗さを測定すると共に、干渉ムラ（色ムラ）、ギラツキ（面ギラ）、表面抵抗率、ヘイズ（曇度）、塗膜硬度、視感反射率の各項目について下記評価方法で評価して、その結果を表１および表２に示した。
（１）微細凹凸面の表面粗さ（μｍ）：ＪＩＳ−Ｂ０６０１−１９９４に準じて測定。
（２）干渉ムラ（色ムラ）：目視で評価し、殆ど見られないものを良好として○印で示し、ぼんやりと見えるものを普通として△印で示し、はっきりと見えるものを不良として×印で示した。
（３）ギラツキ：ＣＲＴモニターに貼り合わせてギラツキを目視で評価し、低反射フィルムを貼っていない状態と変わらないものを良好として○印で示し、低反射フィルムを貼っていない状態と比較してややギラツイているものを普通として△印で示し、低反射フィルムを貼っていない状態と比較して明らかにギラツイているものを不良として×印で示した。
（４）表面抵抗率（Ω／□）：三菱化学（株）製「抵抗率計ＭＣＰ−ＨＴ２６０」を用いて低反射フィルム全体を測定した値である。
（５）ヘイズ（曇度）（％）：ＪＩＳ−Ｋ６７１４に準じて測定。
（６）塗膜硬度：タクマ精工製「簡易鉛筆引っ掻き試験機」を用いて、評価用鉛筆（MITSUBISHI UNI）で１ｋｇ荷重１０ｍｍの５回ストロークを行い、目視で傷の有無を評価し、傷の生じない最大の鉛筆硬度を塗膜硬度とした。
（７）視感反射率（％）：島津製作所製「紫外可視分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣ」を使用し、低反射フィルムの裏面を黒処理し、５度正反射の反射率を測定し、可視光波長３８０〜７８０ｎｍでの視感反射率を評価した。
【００４７】
【表１】

【００４８】
【表２】

【００４９】
【発明の効果】
以上縷々説明したように、本発明によれば、各種ディスプレイ等に使用して透明基板を通して識別する文字や図形画像などの視覚情報を観察する場合に、表面からの入射光が、特に透明基材フィルムとこれに隣接する層との界面で反射された反射光が散乱され、反射防止層とハードコート層との界面における反射光との干渉が生じなくなるため、干渉ムラ（色ムラ）を抑制することができた低反射フィルムを提供することができ、さらにまた、外光の反射を防止し、帯電による塵埃の付着を防止し、擦り傷や引っ掻き傷等で透明性を損なわない程度に十分な硬度を有する低反射フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかる低反射フィルムの第１実施形態を図解的に示す図である。
【図２】本発明にかかる低反射フィルムの第２実施形態を図解的に示す図である。
【図３】本発明にかかる低反射フィルムの第３実施形態を図解的に示す図である。
【図４】本発明にかかる低反射フィルムの第４実施形態を図解的に示す図である。
【符号の説明】
１，１’，１”，１’’’ 低反射フィルム
１０，１０’ 透明基材フィルム
２０，２０’ 干渉防止塗膜層
３０，３０’ ハードコート層
３１第１ハードコート層
３２第２ハードコート層
４０反射防止層
Ａ微細凹凸面
α 導電性微粒子
β 透明樹脂ビーズ[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a low-reflection film excellent in antiglare properties and surface antireflection properties, and more specifically, various displays such as televisions, computers, word processors, etc., used on the surface of polarizing plates used in liquid crystal display devices, Excellent antireflection on the surface, antifouling due to dust and scratch resistance, especially interference unevenness caused by reflection of incident light from the surface at the interface between the base sheet and the adjacent layer ( The present invention relates to a low reflection film capable of suppressing color unevenness.
[0002]
[Prior art]
Transparent substrates such as glass and plastic are used for displays of various electronic devices such as televisions, computers, word processors, and other various commercial displays. Visual information such as characters and graphic images is obtained through these transparent substrates. However, these transparent substrates have a problem that external light reflection occurs on the surface and the above-described visual information is difficult to see.
[0003]
In addition, the above transparent substrates, especially plastic transparent substrates and glass transparent substrates such as CRT (CRT) with an electron beam hitting the front surface are easily charged, so that dust adheres to them, and when these dusts are removed or cleaned. There has been a problem that transparency is lost due to scratches or scratches on the transparent substrate.
[0004]
Therefore, as one method for solving the above problems, for example, an antireflection film in which a hard base layer, a transparent conductive layer or an antireflection layer is formed on a transparent base film on the front surface of a transparent substrate such as glass or plastic. A method of sticking is adopted, thereby preventing scratches, preventing charging, preventing reflection, and the like.
[0005]
As a typical configuration of the above-described antireflection film, for example, (1) a hard coat layer made of a polyfunctional acrylate resin or the like is laminated on a transparent substrate film, and a refractive index is higher than that of the hard coat layer. A structure in which a low antireflection layer is laminated, or (2) a hard coat layer made of a polyfunctional acrylate resin containing conductive fine particles is laminated on a transparent base film, and is refracted on the hard coat layer. For example, the antireflection layer having a low rate is laminated.
[0006]
However, in the antireflection films having the constitutions (1) and (2), the antireflection layer, the hard coat layer, and the transparent substrate film have different refractive indexes. External light incident from the surface side is reflected at the interface between the hard coat layer and the transparent base film, and the reflected light causes interference to be observed as interference unevenness (color unevenness). There was a problem that it was difficult to see visual information such as graphic images. In particular, in the antireflection film having the constitution (2), the hard coat layer is composed of a layer containing conductive fine particles such as ITO (indium tin oxide) and ATO (antimony-doped tin oxide). It is difficult to form a coating layer having a uniform film thickness, resulting in a large undulating film thickness unevenness, and as a result, interference unevenness (color unevenness) becomes more prominent. In the antireflection film having the above constitutions (1) and (2), as a method for suppressing the interference unevenness (color unevenness), the interference unevenness (color unevenness) is suppressed to some extent by providing the outermost surface with an uneven shape. Although the haze (cloudiness) increases, that is, the film surface is whitened, the optical properties such as resolution, contrast, and transparency are lowered. When it is pasted on the surface of the film, the surface of the film shines brightly, so-called plane glare (scintillation) occurs, and the visual information such as characters and graphic images deteriorates.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
Therefore, when observing visual information such as characters and graphic images recognized through a transparent substrate used for various displays and the like, the incident light from the surface, in particular, a transparent substrate film and a layer adjacent thereto The present invention is to provide a low reflection film that can suppress interference unevenness (color unevenness) caused by participation of reflected light reflected at the interface of the light source and that does not cause a problem of surface glare. An object of the present invention is to provide a low reflection film that prevents reflection, prevents adhesion of dust due to charging, and has sufficient hardness to such an extent that transparency is not impaired by scratches or scratches.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
  In order to achieve the above object, the inventor of the present invention described in claim 1Antistatic propertyThe low reflection film is on one side of the transparent substrate film,An antistatic low-reflection film in which an interference prevention coating layer, a hard coat layer, and an antireflection layer are laminated in order,
  A refractive index of the hard coat layer is formed higher than a refractive index of the antireflection layer,
  The interference prevention coating layer is composed of one or more kinds of transparent resin beads selected from the group consisting of acrylic, styrene-acrylic copolymer, melamine, polycarbonate, polyethylene, polystyrene, polyvinyl chloride, and metal oxide. It is obtained by curing a coating solution containing at least conductive fine particles, and the interference-preventing coating layer is formed on the surface opposite to the transparent base film according to JIS-B0601-1994 10-point average roughness. The surface roughness has a fine uneven surface in the range of 0.05 to 0.15 μm.Is.
[0010]
Claims above1By making it the structure as described in (4), the reflected light of the external light which injects from the antireflection layer side can be scattered by a fine uneven surface, and it can be set as the low reflection film which suppressed interference nonuniformity (color nonuniformity). In addition, the surface roughness in this specification is the surface roughness by 10-point average roughness of JIS-B0601-1994.
[0012]
Claims1The present invention described isInterference prevention coatingLayerBy containing conductive fine particles, it has stable conductivity.
[0013]
The interference preventing coating layer isBy containing one or more kinds of transparent resin beads selected from the group consisting of acrylic, styrene-acrylic copolymer, melamine, polycarbonate, polyethylene, polystyrene, and polyvinyl chloride, an interference preventing effect due to fine uneven surfaces It can be set as the low reflection film which has.
[0017]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The above-described present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a diagram schematically showing a first embodiment of a low reflection film according to the present invention, FIG. 2 is a diagram schematically showing a second embodiment of the low reflection film according to the present invention, and FIG. FIG. 4 is a diagram schematically showing a third embodiment of such a low reflection film, and FIG. 4 is a diagram schematically showing a fourth embodiment of the low reflection film according to the present invention. , 1 '' 'is a low reflection film, 10, 10' is a transparent base film, 20, 20 'is an interference prevention coating layer, 30, 30' is a hard coat layer, 31 is a first hard coat layer, 32 is The second hard coat layer, 40 is an antireflection layer, A is a fine irregular surface, α is a conductive fine particle, and β is a transparent resin bead.
[0018]
FIG. 1 is a view schematically showing a first embodiment of a low reflection film according to the present invention. The low reflection film 1 has a surface facing the transparent substrate film 10 on a transparent substrate film 10 having a surface thickness of 0.1. An interference preventing coating layer 20 having a fine irregular surface A having a surface roughness in the range of 05 to 0.15 μm is formed, and the hard coating layer 30 and the reflection are formed on the fine irregular surface A of the interference preventing coating layer 20. The antireflection layer 40 is laminated in order, and the refractive index of the hard coat layer 30 is higher than the refractive index of the antireflection layer 40. It can be set as the low reflection film 1 which has prevention property, and it observes from the said antireflection layer 40 side by making the surface adjacent to the said hard-coat layer of the said interference prevention coating film layer 20 into the fine uneven surface A When the reflection The reflected light of the external light incident from the stop layer side is scattered by the fine uneven surface A, and interference unevenness (color unevenness) can be suppressed, and a low reflection film in which interference unevenness (color unevenness) is not noticeable is obtained. Can do.
[0019]
FIG. 2 is a view schematically showing a second embodiment of the low reflection film according to the present invention, and the low reflection film 1 ′ is the interference-preventing coating of the low reflection film 1 of the first embodiment shown in FIG. The film layer 20 is made of an interference-preventing coating film layer 20 ′ containing conductive fine particles α and transparent resin beads β, thereby providing conductivity and a desired fine uneven surface A. Other than this, FIG. This is the same as the first embodiment shown in FIG. Thus, by using the interference prevention coating film layer 20 ′ containing the conductive fine particles α and the transparent resin beads β, the interference prevention coating film layer 20 ′ can be made a conductive layer by the conductive fine particles α. Thus, a low reflection film having an antistatic effect and an interference preventing effect due to fine irregularities can be obtained by the transparent resin beads β.
[0020]
FIG. 3 is a view schematically showing a third embodiment of the low reflection film according to the present invention. The low reflection film 1 ″ is the hard coat layer of the low reflection film 1 of the first embodiment shown in FIG. 30 includes a first hard coat layer 31 having a refractive index relatively higher than that of the antireflection layer 40 and a second hard coat layer 32 adjacent to the antireflection layer 40, and the second hard coat The layer 32 is composed of a hard coat layer 30 'configured to have a refractive index relatively higher than the refractive index of the first hard coat layer 31, and the others are shown in FIG. In this way, the hard coat comprising the first hard coat layer 31 having a relatively low refractive index and the second hard coat layer 32 having a relatively high refractive index. Layer 30 ' As a result, the relative refractive indexes of the antireflection layer 40, the second hard coat layer 32, and the first hard coat layer 31 become a low refractive index, a high refractive index, and a medium refractive index, respectively. When observed from the 40th side, a low reflection film with further improved antireflection properties can be obtained.
[0021]
FIG. 4 is a view schematically showing a fourth embodiment of low reflection according to the present invention, and the low reflection film 1 ′ ″ is the anti-interference of the low reflection film 1 of the first embodiment shown in FIG. By using the transparent substrate film 10 ′ having the fine uneven surface A on one surface instead of the fine uneven surface A formed by the coating layer 20, the interference preventing coating layer No. 20 is formed, and a fine uneven surface A having a surface roughness in the range of 0.05 to 0.15 μm is formed. The rest is the same as in the first embodiment shown in FIG.
[0022]
Next, materials constituting the

low reflection film

1, 1 ', 1 ", 1" "of the present invention will be described.
First, the transparent base film 10 will be described. As the transparent base film 10, a polyester stretched in a uniaxial direction or biaxial direction is excellent in transparency and heat resistance, and a cellulose triacetate film can be suitably used in terms of transparency and no optical anisotropy. In addition, cellulose di to triacetate, cellulose acetate butyrate, polyester, polyamide, polyimide, polyether sulfone, polysulfone, polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetal, polyether ketone, polymethyl methacrylate, An unstretched, stretched film stretched in a uniaxial direction or biaxial direction of a thermoplastic polymer such as polycarbonate or polyurethane can be used. The preferred thickness of the transparent substrate film is 8 to 1000 μm. In addition, the transparent base film 10 ′ having the fine uneven surface A on one surface is a well-known shaping such as a shaping film or a shaping roll having the above-mentioned surface roughness when the plastic film is formed. It can be formed by shaping using a method or by kneading particles. Further, the

transparent substrate films

10 and 10 ′ can be appropriately subjected to well-known easy adhesion treatment such as corona discharge treatment, ozone treatment, and plasma treatment on necessary surfaces.
[0023]
Next, the resin used for forming the interference preventing coating layer 20 will be described. The resin is not particularly limited as long as it has transparency. For example, a thermoplastic resin, a reactive curable resin such as a thermosetting type or an ionizing radiation curable type, and the like can be used. Adhesiveness to the transparent base film 10 to 10 'and adhesiveness to the hard coat layers 30 and 30' (exactly the first hard coat layer 31) formed on the interference preventing coating layer 20 Is preferably a reaction curable resin, for example, (meth) acrylates of polyfunctional compounds such as alkyd resins, polyhydric alcohols, etc. [Hereinafter, both acrylates and methacrylates are described as (meth) acrylates. Ionizing radiation curable resins (including precursors) such as those containing relatively large amounts of oligomers or prepolymers and reactive diluents. Rukoto can.
[0024]
Examples of the reactive diluent include monofunctional monomers such as ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, vinyltoluene, and N-vinylpyrrolidone, and polyfunctional monomers such as trimethylolpropane. Tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6- Examples include hexadiol di (meth) acrylate and neopentyl glycol di (meth) acrylate.
[0025]
Further, when the ionizing radiation curable resin is used as an ultraviolet curable resin, for example, acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoate, α-amyloxime ester, As thioxanthones and photosensitizers, for example, n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine and the like can be used.
[0026]
In addition, for curing the above ionizing radiation curable resin, a normal curing method of ionizing radiation curable resin, that is, a method of curing by irradiation with electron beams or ultraviolet rays can be used. For example, in the case of electron beam curing Energy of 50 to 1000 KeV, preferably 100 to 300 KeV, emitted from various electron beam accelerators such as Cockloft Walton, Bandegraph, Resonance Transformer, Insulated Core Transformer, Linear, Dynamitron, and High Frequency In the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays emitted from rays such as an ultra-high pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, and a metal halide lamp can be used.
[0027]
The interference-preventing coating layer 20 is formed by applying a coating solution made of the above-described transparency resin (hereinafter referred to as “transparent resin”) directly on the above-described transparent base film 10 or the transparent base film 10. The coating method is not particularly limited, and, for example, a roll coating method or a gravure coating method can be used depending on the characteristics and coating amount of the coating solution. An appropriate coating method may be selected from known coating methods such as a bar coating method and an extrusion coating method. The coating thickness of the interference preventing coating layer 20 is approximately 0.5 to 3.0 μm.
[0028]
Next, the interference preventing coating layer 20 ′ imparted with conductivity is more suitable than the above-described coating method using a coating solution in which the conductive fine particles α are dispersed in the transparent resin described in the interference preventing coating layer 20. It can be formed by selecting an appropriate coating method. As the conductive fine particles α used for this, ZnO (refractive index: 1.90), CeO₂(Refractive index: 1.95), Sb₂O_Five(Refractive index: 1.71), SnO₂(Refractive index: 1.997), In₂O_Three(Refractive index: 2.00), Al₂O_Three(Refractive index: 1.63), indium tin oxide (abbreviation: ITO, refractive index: 1.95), antimony-doped tin oxide (abbreviation: ATO, refractive index: 2.0), aluminum-doped zinc oxide (abbreviation: AZO) , Refractive index: 2.0) and the like, fine particles comprising one or more selected from the group consisting of metal oxides can be mentioned. The average particle size of these fine particles is 10 in consideration of transparency. Those of ˜100 nm are suitable. Further, the thickness of the interference-preventing coating layer 20 ′ imparted with conductivity is 1 × 10 as the surface resistivity.¹²The structure should be Ω / □ or less, and is 0.5 to 3.0 μm, preferably 1.0 to 2.0 μm. If it is less than 0.5 μm, the surface resistivity is 1 × 10¹²It is difficult to set it to Ω / □ or less, and if it exceeds 3.0 μm, the transparency may be lost.
[0029]
For the interference preventing coating layer 20 ′, a coating method in which the transparent resin beads β are dispersed in the transparent resin described in the interference preventing coating layer 20 is selected from the coating methods described above. It can be formed by coating. As the transparent resin beads β used for this, those having a difference from the refractive index of the transparent resin in which the transparent resin beads β are dispersed are 0 to 0.10, more preferably 0 to 0.05. Moreover, the average particle diameter of the transparent resin beads β is suitably in the range of 1.0 to 5.0 μm, for example, acrylic beads (refractive index 1.49), styrene-acrylic copolymer Beads (refractive index 1.54), melamine beads (refractive index 1.57), polycarbonate beads (refractive index 1.57), polyethylene beads (refractive index 1.50), polystyrene beads (refractive index 1.60), poly One or more kinds of beads such as vinyl chloride beads (refractive index 1.60) can be used as appropriate. By using such transparent resin beads, internal haze (cloudiness) ) To suppress.
[0030]
The interference prevention coating film layer 20 ′ has been described as a layer containing the conductive fine particles α and the transparent resin beads β. However, the interference prevention coating film layer 20 ′ is not limited to the conductive fine particles α or the transparent resin. It may be a layer containing any one of the beads β.
[0031]
Next, the hard coat layer 30 formed on the interference preventing coating layers 20 and 20 'will be described. The hard coat layer 30 is a layer that does not extremely impair the conductivity of the interference-preventing coating layer 20 ′ imparted with hardness and conductivity having scratch resistance, and can be usually formed by coating. . For the formation of the hard coat layer 30, the above-described reaction curable resin or the like used for the formation of the interference preventing coating film layers 20 and 20 'is used. Also, the coating method and the curing method are the same as in the case of forming the interference preventing coating layers 20 and 20 '. In the present invention, the “hard coat layer” means a hardness of H or higher in the pencil hardness test shown in JIS-K5400.
[0032]
The hard coat layer 30 in the present invention can be formed of a reaction curable resin such as the ionizing radiation curable resin described above. In this case, even if the hard coat layer 30 alone does not have a conductive function, The surface resistivity having an antistatic effect is also measured on the hard coat layer 30 by the effect of the anti-interference coating layer 20 ′ having conductivity formed under the layer. As will be described later, since the antireflection layer 40 is much thinner than the hard coat layer 30, even if the antireflection layer 40 is formed on the hard coat layer 30, the surface resistivity, etc. The antistatic effect is not impaired. The hard coat layer 30 has a thickness of 1.0 to 3.0 μm, preferably 1.5 to 2.5 μm. If the thickness is less than 1.0 μm, the hardness of each layer formed thereon cannot be maintained, and if it exceeds 3.0 μm, the surface resistivity of the

reflective films

1, 1 ′, 1 ′ ″ is deteriorated. Further, in the present invention, the refractive index of the hard coat layer 30 is higher than the refractive index of the antireflection layer 40 described later, specifically, the refractive index of the hard coat layer 30 is 1.60 to 1.80, By configuring the refractive index of the antireflection layer to be 1.35 to 1.45, the

low reflection film

1, 1 ′, 1 ″ having antireflection properties when observed from the antireflection layer 40 side described later. 'Can be. The refractive index of the hard coat layer 30 is such that the high refractive index fine particles (hereinafter referred to as high refractive index fine particles) transparent to the above-described transparent resin, for example, TiO.₂(Refractive index: 2.3 to 2.7), Y₂O_Three(Refractive index: 1.87), La₂O_Three(Refractive index: 1.95), ZrO₂The refractive index is adjusted by suitably adding one or more of (refractive index: 1.05).
[0033]
In addition, the hard coat layer 30 shown in FIGS. 1, 2, and 4 is formed as shown in FIG. 3 for the purpose of further improving the antireflection when observed from the antireflection layer 40 side described later. The hard coat layer 30 ′ including the coat layer 31 and the second hard coat layer 32 may be used. In this case, the refractive index of the second hard coat layer 32 is relatively higher than the refractive index of the first hard coat layer 31, and the refraction of the second hard coat layer 32 and the first hard coat layer 31 is increased. The refractive index is relatively higher than the refractive index of the antireflection layer 40 described later. Specifically, the refractive index of the first hard coat layer 31 is 1.60 to 1.80, and the refractive index of the second hard coat layer is The refractive index is set to 1.80 to 1.95, and the refractive index of the antireflection layer 40 described later is set to 1.35 to 1.45. The first hard coat layer 31 and the second hard coat layer 32 are formed using the above-described transparent resin, and the high refractive index fine particles described above are added to the transparent resin so that the first hard coat layer 31 has a refractive index. The refractive index is adjusted by adding each of the second hard coat layer 32 so as to be relatively lower than the refractive index of the second hard coat layer 32 and to have the above-described refractive index. Further, the first hard coat layer 31 is a layer formed for the same purpose as the hard coat layer 30, and description thereof is omitted. In addition, the second hard coat layer 32 is provided for the purpose of further improving the antireflection property of the low reflection film 1 ″, and is much thinner than the hard coat layer 30. Even if the second hard coat layer 32 is formed on the first hard coat layer 31 and the antireflection layer 40 to be described later is further formed on the second hard coat layer 32, the antistatic effect such as the surface resistivity can be obtained. The thickness of the second hard coat layer 32 is suitably 50 to 200 nm in view of antireflection properties.
[0034]
Next, the antireflection layer 40 will be described. The antireflection layer 40 is for imparting low reflectivity (antireflection property) to the low reflection film of the present invention, and the refractive index of the antireflection layer 40 is higher than the refractive index of the hard coat layers 30 and 30 ′. It is necessary to be small, preferably 1.46 or less, and more preferably 1.35 to 1.45. Further, in consideration of the antireflection property and antistatic effect of the

low reflection film

1, 1 ′, 1 ″, 1 ′ ″ of the present invention, 80 to 120 nm is appropriate. Fluorine such as a coating solution obtained by adding silica or magnesium fluoride to the above-described transparent resin, or a copolymer of vinylidene fluoride and hexafluoropropylene, which is a low refractive index resin, or a silicon-containing vinylidene fluoride copolymer Applying a coating solution made of a resin or the like, or a coating solution obtained by adding silica or magnesium fluoride to the fluorine resin by a known coating method such as a roll coating method, a gravure coating method, or a bar coating method. Can be formed.
[0035]
The

low reflection film

1, 1 ′, 1 ″, 1 ′ ″ of the present invention requires transparency and antireflection, for example, various displays for observing visual information such as characters and graphic images, or curves. It is used by attaching to the front surface of a mirror, a rearview mirror or the like.
[0036]
【Example】
  Next, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples.
  Reference example 1 (old example 1)
  After applying and drying a coating liquid in which styrene beads (refractive index: 1.60) are dispersed in pentaerythritol triacrylate on one surface of a polyester film A-4300 (product name: manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 188 μm The film was cured by irradiating with ultraviolet rays to form an interference-preventing coating layer having a thickness of 2.5 μm. Next, KZ7973 [hard coating agent in which zirconia ultrafine particles are dispersed (solid content: 50% by weight): manufactured by JSR Co., Ltd.-trade name] is applied and dried on this interference prevention coating film layer and then irradiated with ultraviolet rays under a nitrogen purge. Irradiated and cured to form a 3.0 μm thick hard coat layer (refractive index: 1.69). Thereafter, TM086 [low refractive index coating agent (solid content: 10 wt%): manufactured by JSR Co., Ltd.-trade name] was diluted with methyl isobutyl ketone (MIBK) on the hard coat layer, applied and dried, and then purged with nitrogen. Under irradiation with ultraviolet rays was cured to form an antireflection layer (refractive index: 1.41) having a thickness of 100 nm, thereby obtaining a low reflection film of the present invention.
[0037]
Reference example 2 (old example 2)
  After applying and drying a coating liquid in which styrene beads (refractive index: 1.60) are dispersed in pentaerythritol triacrylate on one surface of a polyester film A-4300 (product name: manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 188 μm The film was cured by irradiating with ultraviolet rays to form an interference-preventing coating layer having a thickness of 2.0 μm. Next, KZ7973 [hard coating agent in which zirconia ultrafine particles are dispersed (solid content: 50% by weight): manufactured by JSR Co., Ltd.-trade name] is applied and dried on this interference prevention coating film layer and then irradiated with ultraviolet rays under a nitrogen purge. Irradiated and cured to form a 3.0 μm thick hard coat layer (refractive index: 1.69). Thereafter, TM086 [low refractive index coating agent (solid content: 10% by weight): JSR Co., Ltd.-trade name] was diluted with MIBK on the hard coat layer, coated and dried, and then irradiated with ultraviolet rays under a nitrogen purge. Then, an antireflection layer (refractive index: 1.41) having a thickness of 100 nm was formed to obtain a low reflection film of the present invention.
[0038]
Reference example 3 (old example 3)
  After applying and drying a coating liquid in which styrene beads (refractive index: 1.60) are dispersed in pentaerythritol triacrylate on one surface of a polyester film A-4300 (product name: manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 188 μm The film was cured by irradiation with ultraviolet rays to form an interference-preventing coating layer having a thickness of 1.5 μm. Next, KZ7973 [hard coating agent in which zirconia ultrafine particles are dispersed (solid content: 50% by weight): manufactured by JSR Co., Ltd.-trade name] is applied and dried on this interference prevention coating film layer and then irradiated with ultraviolet rays under a nitrogen purge. Irradiated and cured to form a 3.0 μm thick hard coat layer (refractive index: 1.69). Thereafter, TM086 [low refractive index coating agent (solid content: 10% by weight): JSR Co., Ltd.-trade name] was diluted with MIBK on the hard coat layer, coated and dried, and then irradiated with ultraviolet rays under a nitrogen purge. Then, an antireflection layer (refractive index: 1.41) having a thickness of 100 nm was formed to obtain a low reflection film of the present invention.
[0039]
Example 4
Pertron C-4456-S7 [hard coating agent in which ATO fine particles are dispersed (solid content: 45% by weight) on one surface of polyester film A-4300 (product name, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 188 μm: Japan Pernox Co., Ltd.-trade name] 100 parts by weight of styrene beads dispersed hard coat agent [hard coat liquid in which styrene beads (refractive index: 1.60) are dispersed in pentaerythritol triacrylate (solid content 48 wt%) The coating solution containing 3 parts by weight of the coating solution was applied and dried, and then cured by irradiating with ultraviolet rays to form an interference-preventing coating layer having a conductivity of 2.0 μm. KZ7973 [hard coat agent in which zirconia ultrafine particles are dispersed (solid content: 50% by weight): manufactured by JSR Corporation-trade name] is applied and dried, and then purged with nitrogen Then, a hard coat layer (refractive index: 1.69) having a thickness of 3.0 μm was formed by irradiating with ultraviolet rays, and then TM086 [low refractive index coat agent (solid content 10 wt.%) Was formed on the hard coat layer. %): JSR Co., Ltd.-trade name] diluted with MIBK, coated and dried, then cured by irradiation with ultraviolet rays under a nitrogen purge to give a 100 nm thick antireflection layer (refractive index: 1.41) And a low reflection film of the present invention was obtained.
[0040]
Example 5
Pertron C-4456-S7 [hard coating agent in which ATO fine particles are dispersed (solid content: 45% by weight) on one surface of polyester film A-4300 (product name, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 188 μm: Japan Pernox Co., Ltd.-trade name] 100 parts by weight of styrene beads dispersed hard coat agent [hard coat liquid in which styrene beads (refractive index: 1.60) are dispersed in pentaerythritol triacrylate (solid content 48 wt%) The coating solution containing 3 parts by weight of the coating solution was applied and dried, and then cured by irradiating with ultraviolet rays to form an interference-preventing coating layer having a conductivity of 2.0 μm. KZ7973 [hard coat agent in which zirconia ultrafine particles are dispersed (solid content: 50% by weight): manufactured by JSR Corporation-trade name] is applied and dried, and then purged with nitrogen The first hard coat layer (refractive index: 1.69) having a thickness of 3.0 μm was formed by irradiating with ultraviolet rays, and then a titanium oxide-dispersed hard coat agent on the first hard coat layer [ High refractive index hard coating agent (solid content 30% by weight) in which titania fine particles surface-treated in pentaerythritol triacrylate are dispersed with a toluene / MEK mixed solvent, and after application and drying, UV irradiation is performed under a nitrogen purge. A second hard coat layer (refractive index: 1.83) having a thickness of 160 nm was formed by irradiation and curing, and then TM086 [low refractive index coat agent (solid content: 10% by weight) on the second hard coat layer. ): JSR Co., Ltd.-trade name] was diluted with MIBK, coated and dried, then irradiated with ultraviolet rays under a nitrogen purge and cured to have a thickness of 100 nm (refractive index: 1.41). Formed to give a low-reflection film of the present invention.
[0041]
Reference example 4 (old example 6)
  A 50 μm-thick polyester film PTH-50 [manufactured by Unitika Ltd.-trade name: a film having a surface roughness of 0.1 μm obtained by kneading particles into a sheet] on one side with KZ7973 [zirconia ultrafine particles The hard coat layer (with a solid content of 50% by weight): JSR Co., Ltd.-trade name] was applied and dried, and then cured by irradiation with ultraviolet rays under a nitrogen purge to form a hard coat layer having a thickness of 3.0 μm. (Refractive index: 1.69) was formed. Thereafter, TM086 [low refractive index coating agent (solid content: 10% by weight): JSR Co., Ltd.-trade name] was diluted with MIBK on the hard coat layer, coated and dried, and then irradiated with ultraviolet rays under a nitrogen purge. Then, an antireflection layer (refractive index: 1.41) having a thickness of 100 nm was formed to obtain a low reflection film of the present invention.
[0042]
Comparative Example 1
A low reflective film was prepared as a comparative example by producing in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of the interference preventing coating layer was 3.5 μm.
[0043]
Comparative Example 2
A low reflection film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of the interference prevention coating layer was changed to 1.0 [mu] m.
[0044]
Comparative Example 3
One side of a 188 μm thick polyester film A-4300 [made by Toyobo Co., Ltd.-trade name] is urethane-acrylate ionizing radiation curable resin EH65 [made by The Inktec Co., Ltd.-trade name] in toluene. After being coated and dried, it was cured by irradiation with ultraviolet rays to form a hard coat layer having a thickness of about 6 μm. Pertron C-4456-S7 [hard coat agent in which ATO fine particles are dispersed (solid content: 45% by weight): manufactured by Nippon Pernox Co., Ltd.-trade name] on 100 parts by weight of this hard coat layer Applying and drying a coating solution containing 3 parts by weight of a hard coating solution (solid content 48% by weight) in which styrene beads (refractive index: 1.60) are dispersed in pentaerythritol triacrylate. Then, a conductive thin film layer having a thickness of 80 nm was formed on the conductive thin film layer, and TM086 [low refractive index coating agent (solid content: 10% by weight): JSR Co., Ltd.-trade name] was added to MIBK. After coating, drying, and irradiating with ultraviolet rays under a nitrogen purge to cure, a 100 nm thick antireflection layer (refractive index: 1.41) is formed. To obtain a low-reflection film.
[0045]
Comparative Example 4
Pertron C-4456-S7 [hard coating agent in which ATO fine particles are dispersed (solid content: 45% by weight) on one surface of polyester film A-4300 (product name, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 188 μm: Japan Pernox Co., Ltd.-trade name] with 100 parts by weight of styrene beads dispersed hard coat agent [hard coat liquid in which styrene beads (refractive index: 1.60) are dispersed in pentaerythritol triacrylate (solid content 48 weight) %] Was applied and dried, and then cured by irradiation with ultraviolet rays to form a conductive thin film layer having a thickness of 4 μm, and TM086 [low refractive index coating was formed on the conductive thin film layer. Agent (solid content 10% by weight): JSR Co., Ltd.-trade name] diluted with methyl isobutyl ketone (MIBK), applied and dried, then purple under nitrogen purge An anti-reflection layer (refractive index: 1.41) having a thickness of 100 nm was formed by irradiating with an external line and cured to obtain a low reflection film as a comparative example.
[0046]
About the low reflection film of Examples 1-6 produced above and Comparative Examples 1-4, while measuring the average roughness of the fine uneven surface of an interference prevention coating film layer, interference nonuniformity (color nonuniformity), glare ( Surface glaze), surface resistivity, haze (cloudiness), coating film hardness, and luminous reflectance were evaluated by the following evaluation methods, and the results are shown in Tables 1 and 2.
(1) Surface roughness (μm) of fine uneven surface: measured according to JIS-B0601-1994.
(2) Interference unevenness (color unevenness): Evaluated by visual inspection, those that are hardly seen are indicated by ○ as good, those that appear dull are indicated by Δ, and those that are clearly visible are indicated by × Indicated.
(3) Glitter: Glitter is visually evaluated by pasting on a CRT monitor, and the same as the state where the low-reflection film is not pasted is shown as a good circle, which is slightly better than the state where the low-reflection film is not pasted. Those that are glaring are shown as △ as normal, and those that are clearly glaring compared to the state where the low reflection film is not applied are shown as × as bad.
(4) Surface resistivity (Ω / □): A value obtained by measuring the entire low reflection film using “Resistivity Meter MCP-HT260” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation.
(5) Haze (cloudiness) (%): Measured according to JIS-K6714.
(6) Coating film hardness: Using “Simple Pencil Scratch Tester” manufactured by Takuma Seiko, the evaluation pencil (MITSUBISHI UNI) is used to make a 5 kg stroke with a load of 1 kg and evaluate the presence or absence of scratches visually. The maximum pencil hardness that does not occur was defined as the coating film hardness.
(7) Luminous reflectance (%): Shimadzu “UV-visible spectrophotometer UV-3100PC” was used, the back surface of the low-reflection film was black-treated, and the reflectivity of 5 degree regular reflection was measured. The luminous reflectance at an optical wavelength of 380 to 780 nm was evaluated.
[0047]
[Table 1]

[0048]
[Table 2]

[0049]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, when observing visual information such as characters and graphic images used for various displays and the like to be identified through a transparent substrate, the incident light from the surface is particularly transparent. Reflected light reflected at the interface between the film and the layer adjacent to the film is scattered, and interference with the reflected light at the interface between the antireflection layer and the hard coat layer does not occur, thereby suppressing interference unevenness (color unevenness). In addition, it is possible to provide a low-reflection film that has been able to provide high hardness enough to prevent reflection of external light, to prevent dust from being charged due to charging, and to prevent transparency from being scratched or scratched. It is possible to provide a low reflection film having the following.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram schematically showing a first embodiment of a low reflection film according to the present invention.
FIG. 2 is a view schematically showing a second embodiment of a low reflection film according to the present invention.
FIG. 3 is a view schematically showing a third embodiment of a low reflection film according to the present invention.
FIG. 4 is a view schematically showing a fourth embodiment of a low reflection film according to the present invention.
[Explanation of symbols]
1,1 ', 1 ", 1" "low reflection film
10,10 'transparent substrate film
20, 20 'interference prevention coating layer
30, 30 'hard coat layer
31 First hard coat layer
32 Second hard coat layer
40 Antireflection layer
A Fine uneven surface
α Conductive fine particles
β Transparent resin beads

Claims

An antistatic low-reflection film in which an interference-preventing coating layer, a hard coat layer, and an antireflection layer are sequentially laminated on one surface of the transparent substrate film ,
A refractive index of the hard coat layer is formed higher than a refractive index of the antireflection layer,
The interference prevention coating layer is composed of one or more kinds of transparent resin beads selected from the group consisting of acrylic, styrene-acrylic copolymer, melamine, polycarbonate, polyethylene, polystyrene, polyvinyl chloride, and metal oxide. It is obtained by curing a coating solution containing at least conductive fine particles, and the interference-preventing coating layer is formed on the surface opposite to the transparent base film according to JIS-B0601-1994 10-point average roughness. An antistatic low-reflection film having a fine uneven surface with a surface roughness in the range of 0.05 to 0.15 μm.